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美光计划在日本建造新的DRAM工厂 预计2027年末投入运营

据TrendForce报道,美光计划在日本广岛县建造一座新的DRAM工厂,预计投资金额在6000亿至8000亿日元之间(约合人民币277.06亿至369.41亿元)。美光计划2026年初开工建设,目标2027年末投入运营,其中将会安装极紫外(EUV)光刻设备,将以1-gamma(1γ)工艺生产DRAM芯片。

美光计划在日本建造新的DRAM工厂 预计2027年末投入运营

据了解,日本政府已经批准高达1920亿日元(约合人民币88.66亿元)的补贴,以支持美光的广岛工厂生产下一代芯片。日本经济产业省去年表示,这笔补助资金将帮助美光整合ASML提供的EUV光刻设备,生产的芯片将为人工智能(AI)、高性能计算(HPC)和自动驾驶技术提供动力,对于未来科技的发展至关重要。

美光在当地本身就有生产设施,其实在更早之前已经计划扩充并升级生产线。美光最初计划2024年初之前开始运营新工厂,但是出于各种不利市场条件,最后调整了时间表。此外,美光还在2013年收购了日本的DRAM厂商尔必达(Elpida),得到了4000多名工程师和技术人员,增强了自身的技术实力。

近年来,日本在半导体领域呈现了复苏的趋势,日本经济产业省与各个私营部门展开多方面合作,促进了相关产业的布局和发展,同时有利的汇率政策也有助于工厂建设和投资。不过日本半导体人才面临短缺,或许要通过人才发展补贴计划来满足未来的发展需要。

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